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半導体、ハンコ製法で逆襲 キオクシア・キヤノン実用へ
2021年10月18日 2:00 [有料会員限定]
先端半導体の回路を描くために不可欠な「露光技術」で日本企業に逆転の目が出てきた。キオクシア、キヤノン、大日本印刷はハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円、対象工程の製造コストを最大4割減らせる見込み。露光分野でシェアを奪われてきた日本勢が再び存在感を高められそうだ。
(省略)
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https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC10DEC0Q1A910C2000000/
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Source: http://matometanews.com/
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